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技术优势
/ Technical advantages
缺陷率降低
采用均匀孔隙与无金属残留设计,可减少晶圆划伤,相关技术已获专利授权(专利号:CN202310418196.5)
效率提升
通过散热优化,抛光速率稳定性得以提升,可适配更先进制程(≤7nm)
成本降低
革新的制造工艺,不仅将良品率提升至行业领先水平,更有效降低了单片耗材成本
未来,随着 AI 驱动的智能制造持续发展,芯谦技术将进一步融合实时数据监测能力,实现抛光垫性能的动态优化。其在材料、结构、工艺三端的协同创新,为国产半导体耗材的自主化进程提供了关键技术支撑。
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