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上海芯谦集成电路
CMP抛光垫 国产化开创者
上海芯谦集成电路有限公司,成立于2021年1月,总部位于上海临港新片区,聚焦半导体化学机械抛光(CMP)耗材研发与生产,致力于成为中国技术领先的CMP抛光垫、保持环生产制造商,提供用于芯片制造、集成电路领域所需的耗材,实现晶圆和大硅片的纳米级抛光。在国内率先实现量产8英寸及12英寸抛光垫、保持环。创始人张莉娟女士,硅谷海归,是抛光垫领域的领军人物,曾创立首家打破国外垄断的抛光垫企业。上海集成电路材料研究院为公司联合股东,获武岳峰资本,韦尔股份旗下基金等领投。
2021年1月,上海芯谦集成电路有限公司在上海临港新片区注册成立,专注于半导体化学机械抛光耗材的生产与研发。2022年1月,公司集成电路和大硅片用抛光垫产业化项目正式投产,首片CMP抛光垫出样,填补国内技术空白。
  • 企业愿景
    打造全球领先的抛光垫品牌,助力中国“芯”崛起!
  • 企业使命
    专注半导体关键耗材,为我国集成电路产业自主可控发展贡献力量。
  • 企业价值观
    创新、极致、协作,以中华易经“谦卦”精神,深耕细分领域
企业理念

让客户放心、安心、舒心