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上海芯谦集成电路
CMP抛光垫 国产化开创者
上海芯谦集成电路有限公司,成立于2021年1月,总部位于上海临港新片区,聚焦半导体化学机械抛光(CMP)耗材研发与生产,致力于成为中国技术领先的CMP抛光垫、保持环生产制造商,提供用于芯片制造、集成电路领域所需的耗材,实现晶圆和大硅片的纳米级抛光。在国内率先实现量产8英寸及12英寸抛光垫、保持环。创始人张莉娟女士,硅谷海归,是抛光垫领域的领军人物,曾创立首家打破国外垄断的抛光垫企业。上海集成电路材料研究院为公司联合股东,获武岳峰资本,韦尔股份旗下基金等领投。
2021年1月,上海芯谦集成电路有限公司在上海临港新片区注册成立,专注于半导体化学机械抛光耗材的生产与研发。2022年1月,公司集成电路和大硅片用抛光垫产业化项目正式投产,首片CMP抛光垫出样,填补国内技术空白
  • 价值观
    创新、极致、协作,以中华易经“谦卦”精神,深耕细分领域。
  • 企业使命
    专注半导体关键耗材,为我国集成电路产业自主可控发展贡献力量。
  • 使命
    技术驱动,全球高效流通和可持续发展
企业理念

让客户放心、安心、舒心

走进芯谦

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创始人张莉娟女士,硅谷海归,是抛光垫领域的领军人物,曾创立首家打破国外垄断的抛光垫企业。上海集成电路材料研究院为公司联合股东,获武岳峰资本,韦尔股份旗下基金等领投。
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发展里程碑

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  • 2021年
    年产10万片生产线投产,获武岳峰资本、冯源投资战略融资
  • 2022年
    产能达到15万片/年,市值接近10亿,获上海市“专精特新”资质
  • 2023年
    截止到8月,共获得专业领域的知识产权专利50项
  • 2024年
    荣获上海市“临港科创新锐”企业,快速 拓展多地区市场
  • 2026年
    设定目标三期扩产到40万片/年,占国产晶圆代工市场40%
组织架构图

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