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CMP抛光垫 国产化开创者
CMP polishing pad localization pioneer
上海芯谦集成电路 · 智能制造
Intelligent manufacturing digitization
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上海芯谦集成电路
CMP抛光垫 国产化开创者
上海芯谦集成电路有限公司,成立于2021年1月,总部位于上海临港新片区,聚焦半导体化学机械抛光(CMP)耗材研发与生产,致力于成为中国技术领先的CMP抛光垫、保持环生产制造商,提供用于芯片制造、集成电路领域所需的耗材,实现晶圆和大硅片的纳米级抛光。在国内率先实现量产8英寸及12英寸抛光垫、保持环。创始人张莉娟女士,硅谷海归,是抛光垫领域的领军人物,曾创立首家打破国外垄断的抛光垫企业。上海集成电路材料研究院为公司联合股东,获武岳峰资本,韦尔股份旗下基金等领投。
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芯谦贴心的服务支持
专业服务团队
芯谦建立了专业的技术服务团队,能够为客户提供从产品选型、工艺优化到售后技术支持的全方位服务。技术服务成员都具有丰富的行业经验和专业知识,能够快速相应客户需求,解决产品在使用过程中遇到的问题。
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定制解决方案
通过与客户密切沟通,根据客户的工艺特点,工程需求,芯谦能提供定制化的CMP抛光垫解决方案,帮助客户提高生产效率和良率。及时了解客户的需求变化,不断优化产品和服务,确保客户的满意度。
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售后服务保障
公司建立了完善的售后服务体系,为客户提供及时、高效的售后支持。芯谦承诺在接到客户反馈后,第一时间迅速相应,并马上安排技术人员进行处理,确保客户的生产环节不受影响,享受无忧的全程服务。
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芯谦的六大潜在优势
芯谦创始于上海临港,作为中国半导体产业的重要战略高地,其产业集群对CMP抛光垫企业具有显著的赋能作用,产业生态+政策红利+技术赋能
全产业链协同生态
政策与资金强力支持
市场拓展与全球化窗口
高端制造基础设施完善
技术创新与人才保障
战略安全与抗风险能力
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